مقاله

رشد و بررسی خواص نانو ساختاری اکسید تیتانیوم و نیتراید آلومینیوم

علی بهاری، a. bahari physics department, faculty of science, the university of mazandaranگروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر کبرا حسن زاده، k. hasanzadeh physics department, faculty of science, the university of mazandaranگروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر مونا امیرصادقی، m. amir sadeghi physics department, faculty of science, the university of mazandaranگروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر ماندانا رودباری، m. roodbari physics department, faculty of science, the university of mazandaranگروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر

دانلود متن کاملرایگان، با حساب کاربری؛ ثبت نام با گوگل چند ثانیه است

چکیده

اکسید تیتانیوم و نیترید آلومینیوم را در شرایط به ترتیب فشار بالا و فشار بسیار پایین بر زیر لایه سیلیکونی رشد داده ایم و با استفاده از تکنیکهایی نظیر تابش سینکروترونی,( aes (auger electron spectroscopy و( sem (scanning electron microscope به مطالعه ساختار آنها پرداختیم. بررسیهای به عمل آمده نشان می دهند که فیلم آمورف اکسید تیتانیوم و یا نیترید آلومینیوم بر زیر لایه سیلیکون شکل گرفته است که این ویژگی در کنار بالا بودن ثابت دی الکتریک آنها, می تواند از آنها یک گیت دی الکتریک مناسب به جای اکسید فرا نازک سیلیکون بسازد.

اسناد مشابه