بررسی ویژگی های ساختاری، الکتریکی و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با ناخالصی قلع (ito)
چکیده
چکیده‌ای برای این سند ثبت نشده است.
پایان‌نامه‌های مشابه
نقش نانوذرات نقره در بلوری شدن لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده به قلع و بررسی خواص الکتریکی و نوری این لایه ها
لایه نازک اکسید ایندیوم (in2o3) دو ویژگی تراگسیل نوری و رسانندگی الکتریکی را به طور همزمان دارا می باشد. با اضافه کردن ناخالصی قلع، لایه نازک اکسید ایندیوم آلاییده به قلع (ito) به دست می آید که خواص فیزیکی آن بسته به روش ساخت بهینه می شود. امروزه برای دستیابی به خواص مطلوب، افزای
مطالعه خواص اپتیکی لایه نازک اکسید سریوم آلاییده با دی اکسید سیلسیوم به روش مایسل معکوس با استفاده از دستگاه لایه نشانی چرخشی
لایهنازک ceo2-sio2 دارای ویژگی های مناسبی است که باعث شده تا این لایه کاربردهای مختلفی در اپتیک کاربردی مانند استفاده ی آن در وسایل الکتروشیمیایی، پنجره های هوشمند و سلول های سوختی داشته باشد. در این پایان نامه لایه های نازک ceo2-sio2 با استفاده از روش شیمیایی مایسلمعکوس و لایه
بررسی ویژگی های اپتیکی و ریخت شناسی لایه های نانومتری اکسید ایندیوم آلاییده با قلع
اکسید ایندیوم قلع (ito) یک نیمرسانای نوع n با گاف انرژی بزرگ است که عبور بالا در ناحیه های مرئی و مادون قرمز نزدیک از خود نشان می دهد. با توجه به روش انباشت، لایه های نازک ito می توانند دارای شفافیت، رسانندگی و مورفولوژی سطح مختلف باشند. لایه های نازک ito مورد استفاده در این تحقی
بررسی خواص الکتریکی، ساختاری و اپتیکی لایه های نازک نانو ساختار اکسید قلع آلاییده با وانادیوم به روش اسپری پایرولیزیز
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید قلع آلاییده با وانادیوم (sno2:v) به روش اسپری پایرولیزیز بر روی زیرلایههای شیشه ای تهیه شده است. تاثیر ناخالصی وانادیوم بر روی خواص ساختاری، الکتریکی، ترموالکتریکی، اپتیکی و فوتورسانایی لایه های نازک sno 2 بررسی شد. نسبت های اتمی وانادیوم به قلع
لایه نشانی و مشخصه یابی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک نانوساختار اکسید تنگستن (wo3) با ناخالصی وانادیوم
در این تحقیق لایه های نازک سیستم دوتایی اکسید تنگستن – اکسید وانادیوم بر روی بسترهای شیشه ای به روش شیمیایی اسپری پایرولیزیز تهیه شدند. اثر ناخالصی وانادیوم، دمای بستر و فرایند بازپخت بر روی خواص ساختاری، مورفولوژی سطحی و خواص اپتیکی لایه های نازک اکسید تنگستن بررسی شد. آنالیز xr
لایه نشانی و مطالعه ی خواص ساختاری، الکتریکی، اپتیکی و الکتروکرومیک لایه های نازک نانوساختار اکسید وانادیوم و اثر آلاینده ها (گوگرد و فلوئور) بر روی این خواص
در این پژوهش لایه های نازک اکسید وانادیوم روی بستر شیشه با استفاده از روش اسپری پایرولیزیز با انتخاب پارامترهای متفاوت دمای بستر (300، 350، 375، 400، 450، °c 500)، غلظت¬ محلول اولیه (0/05، 0/1، 0/15، mol/lit 0/2) و آهنگ¬ لایه نشانی (3، 5، 7، ml/min 10) رشد یافتند. مطالعه و بررسی
اسناد مشابه
مقاله پژوهشی: مقایسۀ خواص اپتیکی لایه‌های نانوساختار اکسید روی آلاییده با آلومینیوم AZO و اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ITO
در این پژوهش، خواص اپتیکی لایهنازک اکسید روی آلاییده با آلومینیوم (AZO) و لایهنازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع (ITO) بر زیرلایۀ شیشه و زیرلایۀ پلیمری انعطافپذیر (پلیاتیلن) PET بررسی شد. سپس فیلترهای فوق با یکدیگر مقایسه شدند. هدف این پژوهش، به دست آوردن لایۀ بهینه با مقاومت
تاثیر غلظت آلاینده اکسید قلع بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه‌های نازک اکسید ایندیم تهیه شده به روش تبخیر با باریکه الکترونی
در این کار تجربی لایه‌های نازک اکسید ایندیم آلاییده با اکسید قلع (ITO) با ترکیب‌های مختلفی از 60 تا wt%95 اکسید ایندیم و 40 تا wt%5 اکسید قلع با استفاده از روش تبخیر با باریکه الکترونی بر روی زیرلایههای شیشه‌ای نهشته شدند. لایه‌ها پس از نهشت، به مدت 3 ساعت در هوا در دمای Cْ450 ت
بررسی اثر شار گاز استیلن در ترکیب پلاسما بر خواص ساختاری و اپتیکی لایه نازک سیلیکای آلاییده با کربن
در این تحقیق لایه‌های نازک سیلیکاتی و سیلیکای آلاییده با کربن به روش پلیمریزاسیون پلاسمایی با استفاده از دستگاه کوپل خازنی در فرکانس رادیویی و روی زیرلایههای سیلیسیومی انباشت شدند. برای تولید لایه‌ها از ماده اولیه به صورت مایع آلی-سیلیکاتی TEOS استفاده شد و بخار آن با گازهای اکس
بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ITO) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت‌های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثا
بررسی خواص ساختاری و اپتیکی لایه های نازک اکسید ایندیم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیم قلع (ito) به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی زیرلایه های شیشه ای. با ضخامت های اسمی 50، 100، 170 و 250 نانومتر، با نرخ انباشت ثابت 10/0 نانومتر بر ثانیه لایه نشانی شده اند. دمای زیرلایه ها در خلال لایه نشانی در دمای 400 درجه سانتیگراد ثا
تحلیل فرکتالی ویژگی های سطح لایه های نازک اکسید ایندیوم قلع
در این تحقیق، لایه های نازک اکسید ایندیوم آلاییده با قلع ( ito ) در ضخامت های مختلف به روش تبخیر با پرتو الکترونی بر روی بستره شیشه ای در دمای اتاق تهیه شده است. ضخامت لایه ها 100 ، 150 و 250 نانومتر می باشد. با استفاده از تحلیل فرکتالی، فرآیند رشد لایه (افزایش ضخامت) بر خصوصیات