تولید پالس های تراهرتز با استفاده از بلورهای فوتونی یک بعدی از طریق یکسوسازی اپتیکی
چکیده
چکیدهای برای این سند ثبت نشده است.
چکیدهای برای این سند ثبت نشده است.
امروزه لیزرهای حالت جامد با پالس هایی از مرتبه ی پیکو ثانیه و کمتر، از اهمیت زیادی در بسیاری از زمینه ها از جمله: پزشکی، داروسازی، مخابرات، تبدیل غیرخطی فرکانس، فرآوری مواد وغیره برخوردارند. بطور کلی برای تولید چنین پالس هایی از دو روش کیوسویچینگ و قفل شدگی مد استفاده می گردد، که
در این تحقیق، یک ابزار نوری کارآمد و کمحجم برای کند کردن نور با استفاده از بلورهای فوتونی موجدار با الگوهای مختلف مورد بحث و بررسی قرار گرفته است. ساختار پیشنهادی، تأخیر گروهی نسبتاً بزرگ با پهنای باند وسیع و پاشندگی سرعت گروه تقریباً صفر را در ناحیه فروقرمز نزدیک نشان میدهد.
تمرکز این مقاله روی پتانسیل مواد با ضریب شکست منفی به منظور بهتر نمودن مشخصه های اپتیکی و مگنتواپتیکی بلورهای فوتونی مغناطیسی یک بعدی می باشد. ما قابلیت مواد دوگانه-منفی در مقایسه با مواد معمولی در بلورهای فوتونی مغناطیسی را بررسی کرده ایم. به عنوان یک نتیجه، دریافتیم که یک پهن ش
تمرکز این مقاله روی پتانسیل مواد با ضریب شکست منفی به منظور بهتر نمودن مشخصههای اپتیکی و مگنتواپتیکی بلورهای فوتونی مغناطیسی یک بعدی میباشد. ما قابلیت مواد دوگانه-منفی در مقایسه با مواد معمولی در بلورهای فوتونی مغناطیسی را بررسی کردهایم. به عنوان یک نتیجه، دریافتیم که یک پهنش
در این مقاله گاف نوارهای بلور فوتونیکی یک بعدی با استفاده از دو روش ماتریس انتقال و روش ضرایب فرنل مقایسه می شود. در روش استفاده از ضرایب فرنل، با در دست داشتن ضرایب شکست هر یک از لایه ها و هم چنین زاویه تابش اولیه به سطح بلور، ضرایب فرنل عبوری و بازتاب بلور محاسبه شده و بعد شرط
در این مقاله گاف نوارهای بلور فوتونیکی یک بعدی با استفاده از دو روش ماتریس انتقال و روش ضرایب فرنل مقایسه میشود. در روش استفاده از ضرایب فرنل، با در دست داشتن ضرایب شکست هر یک از لایهها و همچنین زاویه تابش اولیه به سطح بلور، ضرایب فرنل عبوری و بازتاب بلور محاسبه شده و بعد شرط