تهیه لایه های نازک نانو نقره به روش سل - ژل و بررسی خواص فیزیکی آن ها
چکیده
چکیدهای برای این سند ثبت نشده است.
چکیدهای برای این سند ثبت نشده است.
در این پروژه فیلم لایه نازک نانو ساختار اکسید روی و هیدروکسید روی بر روی اسلاید شیشه ای تحت تابش دهی مایکروویو به عنوان یک روش ساده و سریع تهیه شده است. همچنین به منظور بررسی اثر نقره بر روی خصوصیات فیزیکی و بیولوژیکی فیلم ها، فیلم اکسید روی/نقره و هیدروکسید روی/نقره بر روی اسلای
در این پژوهش فیلم های لایه نازک نانو ساختار روی اکسید حاوی نقره و روی اکسید فرونشانی فتوشیمیایی شده با نانو ذرات نقره روی بستر شیشه ای بوسیله فرایند سل-ژل و با استفاده از تکنیک های پوشش دهی چرخشی و غوطه وری تهیه شدند. برای تهیه سل روی اکسید حاوی نقره، از ترکیب سل روی اکسید و محلو
در سال های اخیر دی اکسیدتیتانیوم به دلیل کاربردهای وسیعی در قسمت های مختلف از جمله الکترونیک نوری، فعالیت های فوتوکاتالیستی، سلول های خورشیدی، کاربردهای الکتروکرومیک، ذخیره سازی هیدروژن و سنسورهای گازی مورد توجه قرار گرفته است. در این پایان نامه لایه های نازک نانو دی اکسیدتیتانیو
در این تحقیق ،لایه های نازک آلومینیوم اکسی نیترید بر روی زیر لایه هایی از جنس bk7 به روش کندوپاش مغناطیسی جریان متناوب انباشته شده اند. هدف از این مطالعات بررسی اثر نسبت گاز نیتروژن ، به عنوان گاز واکنشی و تاثیر دمای زیرآیند بر خواص اپتیکی، سختی، مرفولوژی سطح, آستانه تخریب لایه و
چکیده در این پژوهش لایه های نازک باریم استرانسیم تیتانات (ba1-xsrxtio3) با استوکیومتری های 4/0، 3/0، 2/0، 1/0=x به روش سل-ژل تهیه شدند. برای تهیه سل 25/0 مولار، از نمک های فلزی باریم استات و استرانسیم استات، آلکوکسید فلزی تیتانیم تترا ایزوپروپوکساید با استوکیومتری مناسب، حلال های
آلیاژ فرومغناطیس fept یکی از مهم ترین مواد مغناطیسی مورد استفاده در ساخت حافظه های مغناطیسی با دانسیته ی مغناطیسی بالا می باشد. در این پروژه این آلیاژ با استفاده از روش مگنترون اسپاترینگ و با استفاده از هدف های آهن و پلاتین با خلوص99/ 99% بر روی زیر لایه si/sio2(001) و لایه بافر
اکسید روی (ZnO) به عنوان ماده نیمه رسانا با شکاف نواری مستقیم و پهن، اهمیت زیادی در ساخت قطعات الکترونیکی مانند ترانزیستورهای اثر میدانی و قطعات اپتو الکترونیکی نظیر دیود های نور گسیل و همچنین آشکار سازی نوری دارد. در این پژوهش با استفاده از لایه نشانی به روش سل – ژل، پوشش های
در این پژوهش، لایه نازک دی اکسید تیتانیوم آلاییده شده با وانادیوم با غلظتهای مختلف ( 5/1،0 و 5 درصد وزنی) به روش سل-ژل بر روی زیرلایههای شیشهای رسوب داده شد. خواص ساختاری، آنالیز عنصری، الکتریکی، اپتیکی و زبری سطح لایههای نازک به ترتیب توسط روشهای XRD، DES، LCR meter، طیف سن
در این تحقیق، لایههای نازکی از سولفید روی دوپ شده با نقره (ZnS:Ag) با استفاده از روش کندوپاش مغناطیسی فرکانس رادیویی (RF) بر روی زیرلایههای شیشه لایه نشانی شدند. برای حصول لایه نازک بهینه، فشارهای کاری مختلف در محدود torr 3-10×5/1 تا torr 1-10×1 مورد بررسی قرار گرفتند. لایههای نا
در این تحقیق لایه نازک نانو ساختار اکسید روی دارای آلایش آلومینیوم و تیتانیم (atzo) به روش سل ژل تهیه گردید. آنالیز فازی توسط تکنیک پراش پرتو ایکس (xrd)، مشاهدات ریز ساختاری و آنالیز عنصری توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (fe-sem) و ابزار طیف سنج تفکیک انرژی (edx) انجام
در این تحقیق لایه نازک نانو ساختار اکسید روی دارای آلایش آلومینیوم و تیتانیم (ATZO) به روش سلژل تهیه گردید. آنالیز فازی توسط تکنیک پراش پرتو ایکس (XRD)، مشاهدات ریز ساختاری و آنالیز عنصری توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی گسیل میدانی (FE-SEM) و ابزار طیف سنج تفکیک انرژی (EDX) انجام