بررسی تأثیر عملیات حرارت دهی بر ویژگی های لایه های نازک zno
چکیده
به منظور بررسی جامع و سیستماتیک ویژگی های اپتیکی و ساختاری لایه های نازک اکسید روی ، در این کار تجربی لایه های نازک zno در گستره ضخامت های(nm320-20) از اکسیداسیون حرارتی لایه های zn انباشت شده به روش کندوپاش مگنترون dc روی زیرلایه شیشه ای تهیه شده اند. از آنجایی که در این راه کار خصوصیات لایه های zno به ویژگی های لایه zn انباشت شده و شرایط اکسیداسیون و فرایندهای پس از لایه نشانی وابسته است، لذا در این پروژه به مطالعه تأثیر فرایندهای حرارت دهی (در حین انباشت و پس از لایه نشانی) پرداخته شده است. دمای زیرلایه در گستره (k500-300) و دمای اکسیداسیون و پس بازپخت در محدوده (°c700-300) به کار گرفته شده اند. برای بررسی تأثیر آن ها بر ویژگی های الکترواپتیکی (توان عبوردهی، جذب، ضریب شکست، گاف نواری و...) از طیف سنج uv-vis با گستره طول موج (nm1100-200) بهره گرفته شده است. از نتایج آنالیزهای پراش اشعه x (xrd) ، میکروسکوپ الکترونی روبشی (sem) و پس پراکندگی رادرفورد (rbs) برای بررسی ریزساختار لایه های اکسید روی استفاده شده است. در نهایت آنالیز طیف فوتولومینسانس (pl) در جهت تأیید نتایج اپتیکی و مطالعه کیفیت و ناراستی ها در نمونه های متنوع انجام گرفته است.