تاثیر دمای بازپخت و دمای زیرلایه روی خواص ساختاری، اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک دی اکسید قلع تهیه شده به روش بمباران الکترونی
چکیده
در این تحقیق لایه های نازک به روش تبخیر با باریکه ی الکترونی در روی زیرلایه های شیشه ای تهیه شدند. این روش تبخیر حرارتی مزایایی بر روش های دیگر دارد. در این روش زیرلایه آسیب نمی بیند و از طرفی چون بعضی از مواد با چشمه حرارتی (بوته) شدیدا واکنش می دهند برای تبخیر موادی از این قبیل و جلوگیری از آلودگی لایه ها از این روش استفاده می شود. در این کار تجربی لایه ها پس از فرآیند لایه نشانی در دماهای مختلف در هوا بازپخت شدند، زیرا این بازپخت در تراگسیل اپتیکی آنها تاثیر بسزایی دارد. برخی از خواص اپتیکی، الکتریکی و ساختاری این لایه ها و تاثیر نرخ لایه نشانی و دمای زیرلایه و ضخامت لایه بر این خواص بررسی شدند.