ساخت و بررسی خواص ضد باکتری لایه های نازک اکسید تنگستن
چکیده
در این پایان نامه، ابتدا لایه های نازک wo3به روش تبخیر حرارتی با ضخامت nm200 روی لام آزمایشگاهی رشد داده شدند. سپس جهت ایجاد نانو ساختارهای اکسید تنگستن (wo3-x) ، نمونه ها در محیط هیدروژن خالص در دمای oc400 به مدت زمان های متفاوت از صفر تا 480 دقیقه احیاء گردیدند. خواص نوری لایه ها با استفاده از دستگاه اسپکتروفوتومتر (2700-200) مورد بررسی قرار گرفت، بر اساس تحلیل نتایج تحقیقات انجام شده مشخص گردید که با افزایش مدت زمان پخت در محیط هیدروژن به علت بلوری شدن لایه های نازک wo3-x ، انرژی گاف این لایه ها کاهش می یابد. به منظور بررسی مورفولوژی سطح نمونه ها، از آنالیز afm استفاده شد که برای نمونه سپرده شده به مدت 30 دقیقه، اندازه متوسط دانه ها در حدود 67 نانومتر اندازه گیری شد. طیف های xrd نشان داد که نمونه ها قبل از احیاء هیچ ساختار بلوری wo3-x ندارند و آمورف هستند اما بعد از احیاء فازهای بلوری مختلف wo3-x تشکیل می گردند که اندازه متوسط نانو بلورک های آنها از رابطه شرر در حدود 80 نانومتر بدست آمد. به وسیله آنالیزxps ترکیب شیمیایی سطح فیلم ها مشخصه یابی شد. بررسی ها نشان داد که نمونه ها آبدوست هستند و زاویه تماس میان قطره آب و سطح در محدوده 7 تا 26 درجه می باشد. سپس تغییر نسبی رسانایی الکتریکی نمونه ها اندازه گیری شد. نتایج نشان می دهد که با افزایش مدت زمان پخت، رسانایی الکتریکی لایه ها افزایش می یابد. در نهایت خاصیت فوتو کاتالیستی نمونه ها مورد بررسی قرارگرفت که نشان داد بهترین شرایط برای خاصیت فوتو کاتالیستی، پخت نمونه ها به مدت 30 دقیقه می باشد که 90 درصد باکتری ها را از بین می برد