پایان‌نامه

بررسی اثر هندسه گیت در عملکرد ترانزیستورهای اثر میدانی گرافینی

چکیده

ویژگی¬های الکتریکی و نوری خاص گرافین، ازجمله تحرک پذیری بالای حاملین در دمای اتاق، عدم وجود گاف باندی، قابلیت انعطاف پذیری بالا و وجود ترابرد بالستیک حاملین در دمای اتاق، آن را به یک ماده ایده¬آل برای استفاده در حوزه نانو الکترونیک تبدیل کرده است.تحرکپذیری بسیار بالای حامل¬ها در دمای اتاق و ترابرد بالیستیک، گرافین را جایگزین بالقوه ی سیلیکون به عنوان نیمرسانا در مدارهای مجتمع، مدارهای منطقی و ابزارهای الکترونیکی آینده کرده است که با استفاده از آن می-توان به ترانزیستورهای سریع¬تر و کوچک¬تر با مصرف انرژی کمتر نسبت به ابزارهای بر پایه¬ی سیلیکون دست یافت.اگر چه در ترانزیستورهای گرافینی، تحرکپذیری حاملین بالا است ولی،نبود گاف باندی بهعنوان یک نقص در کاربرد گرافین به عنوان کانال ترانزیستور محسوب می¬شود، زیرا در این حالت جریان حالت خاموشی ( )، بهخاطر تونلزنی داخل باندی افزایش می¬یابدو موجب تخریب عملکرد بهینه¬ی ترانزیستورهای اثر میدانی می¬شود. یکی از روش¬ها برای حل این مشکل، استفاده از گرافین دولایه و ایجاد گاف در آن توسط اعمال میدان الکتریکی و همچنین استفاده از نانو نوار است. ایجاد و کنترل¬پذیر بودن گاف انرژی، گرافین دو لایه را به عنوان ماده¬ی کانالی مناسب در ترانزیستورهای اثر میدانی تبدیل کرده است. استفاده از این مواد باعث کاهش احتمال تونلزنی و افزایش نسبت می¬شود. در این پایان¬نامه یک مدل تحلیلی برای ترانزیستورهای اثر میدانی گرافین دو لایه با گرافین دو لایه به عنوان کانال ترانزیستور، ارائهمی¬شود.در ابتدا تابع پتانسیل در نواحی مختلف کانال با استفاده از معادله پواسون برای دو ناحیه¬ی کاری ولتاژ گیت بالای ولتاژ آستانه و زیر ولتاژ آستانه و همچنین بیشینه سد پتانسیل که در روش شبه کلاسیکی برای تعیین چگالی جریان در داخل کانال ضروری است، محاسبه می¬شود. سپس چگالی جریان حرارتی و تونل زنی، در ساختار ترانزیستورهایی که در آن، طول کانال بزرگ¬تر از طول برخورد است، به ازای پارامتر¬های مختلف، محاسبه گردید.نتایج محاسبات نشان می دهد که جریان و هدایت انتقالی، به ولتاژ گیت، طول گیت، فاصله گیت از سورس و درین و ضخامت لایه¬های ¬دی الکتریک وابسته بوده و هم¬چنین بیشینه مقدار هدایت انتقالی، با تغییرات مقدار متوسط طول برخورد تغییر می¬نماید. همچنین در این ساختار، بسامد قطع در طول¬های مختلف کانال، به ازای ولتاژهای گیت اعمالی را به دست آوردیم که به خاطرتحرک پذیری بالای حاملین ، دارای بزرگی از مرتبه¬ی تراهرتز است.

اساتید راهنما و مشاور

بابک عبدالهی پور، اصغر عسگری

پایان‌نامه‌های مشابه

  • بررسی ترابرد الکترون در ترانزیستورهای تونل زنی اثر میدانی گرافینی

    پایان‌نامه۲۰۱۴وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه زنجان - دانشکده علوم پایهکامیار قادری

    در این پایان نامه، بر اساس رهیافت تابع گرین و هامیلتونی تنگابست، در تقریب نزدیکترین همسایه ها، به بررسی ترابرد الکترونی در ترانزیستورهای اثر میدانی گرافینی، بر اساس تونل زنی کوانتومی، خواهیم پرداخت. این ترانزیستورها شامل دو نانونوار گرافینی است؛ که چند لایه بور-نیترید در بین آن ه

  • بررسی عددی ترابرد کوانتومی در ساختارهای نامتجانس و ترانزیستورهای اثر میدانی گرافینی

    پایان‌نامه۲۰۱۱وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه تحصیلات تکمیلی علوم پایه زنجان - دانشکده فیزیکحکیمه محمدپور

    در این پایان نامه ترابرد کوانتومی در دو ساختار گرافینی بالیستیک مطالعه می شود. ابتدا به بررسی اتصالات نامتجانس نرمال-ابررسانا-نرمال گرافینی می پردازیم. همدوسی ابررسانایی باعث می شود در فرود الکترون از ناحیه نرمال اول به مرز اتصال با ابررسانا، علاوه بر پراکندگی (ترابرد) به صورت ال

  • بررسی و شبیه سازی روش های بهبود عملکرد ترانزیستورهای اثر میدان نانولوله کربنی از طریق تغییر درناحیه گیت

    پایان‌نامه۲۰۱۴دانشگاه آزاد اسلامی واحد کرمانشاه - دانشکده مهندسی برقزهره محمودی

    چکیده نانولوله هایکربنی قابلیت های منحصر به فرد زیادی دارند که چشم انداز مناسبی در کاربردهاینانوالکترونیکو در مدارات مجتمع آینده می توان برای آن ها متصور شد.به دلیل مشخصات الکترونیکی عالی نانولوله های کربنی نظیر قابلیت تحرک بالا، سازگاری با ثابت دی الکتریک بالا و قطر کوچک، استفاد

  • بررسی عملکرد ترانزیستورهای soi-mosfet در مقیاس نانو

    پایان‌نامه۲۰۰۹دانشگاه تربیت معلم - سبزوار - دانشکده فنیجعفر احدزاده فرهود بناب

    وقتی که ابعاد ترانزیستور به حد نانو می رسد، فرض یکنواختی توزیع چگالی حامل ها در کانال ترانزیستور نادرست می گردد. توزیع غیر یکنواخت و تصادفی ناخالصی ها در کانال ترانزیستور باعث ایجاد تغییراتی در مشخصه ترانزیستور می گردد و باعث می شود که پارامترهای ترانزیستور از جمله ولتاژ آستانه،

  • بهبود عملکرد ترانزیستورهای سیلیسیم روی عایق در کاربردهای ولتاژ پایین

    پایان‌نامه۲۰۱۴وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه سمنان - دانشکده برق و کامپیوترمحمدکاظم انوری فرد

    امروزه با پیشرفت چشمگیر تکنولوژی، کوچک¬سازی افزاره¬ها به عنوان یکی از نیاز¬های اساسی برای مدارات آنالوگ و دیجیتال مطرح است. اما با کوچک¬سازی افزاره¬ها، مشکلات بحرانی در عملکرد الکتریکی و حرارتی افزاره¬ها بروز می¬نماید که برای حل آن نیاز به ارائه راهکارها و ساختارهای نوین است. این

  • مهندسی ناحیه رانشی برای بهبود عملکرد ترانزیستورهای soi ldmos

    پایان‌نامه۲۰۱۴وزارت علوم، تحقیقات و فناوری - دانشگاه سمنان - دانشکده برق و کامپیوترمحمدعلی جهان بخش

    چکیده : در این پایان نامه، ما یک ترانزیستور soi ldmos جدید به منظور بدست آوردن ولتاژ شکست بالا ارائه کرده ایم. ساختار پیشنهادی از چندین چاه n و p+ که به صورت پریودیک در اکسید مدفون قرار گرفته اند، شکل گرفته است. بنابراین ما ساختار پیشنهادی را ترانزیستور با چاه های چندگانه (mdw-ld

اسناد مشابه